多晶矽還原爐內主要（yào）汙（wū）染物（wù）及清洗工（gōng）藝

從2010年至今，光伏（fú）產業呈（chéng）現（xiàn）出了強勢的複蘇態勢，光伏市（shì）場需求（qiú）旺盛（shèng）。高（gāo）純多晶矽（guī）是電子工業和太陽能光伏產業的基礎原料也是主要原料，在整個生產過程中，對（duì）產品質量的控製要求很高。目前，生產多晶（jīng）矽主要采用改良西門子法，對還（hái）原（yuán）爐的沉積環境的潔淨度要求特別關鍵，任（rèn）何（hé）顆粒性雜質、油脂（zhī）等物質餘留在爐內，都會對產品質量造成影響。
 
一、多晶矽還原爐內（nèi）主要汙染物

根據多晶矽生產原理及實際生產情（qíng）況分析，還原爐基盤及鍾罩（zhào）表麵主要汙染物為無定形矽粉，其次為多晶矽顆粒物、氯矽烷水解物及部分粉（fěn）塵（chén）雜質。

1、無定形矽

還原爐在一個周（zhōu）期運行後，基盤及鍾罩（zhào）表（biǎo）麵均會產生一層土（tǔ）黃色粉末，主要成分（fèn）為無定形矽粉。基盤冷卻水（shuǐ）溫度偏（piān）高，在還原爐基盤尾氣出口也會產生無定形矽。這（zhè）些無定形矽易形（xíng）成一層膜附（fù）在基盤和鍾罩內表麵，甚至在電極和石英環表麵。

2、氯矽烷（wán）水解物

多晶矽打開鍾罩前（qián）要進行嚴格的氮（dàn）氣置換，但因還原爐結構複雜，在進料口、尾氣管、窺視鏡等地方易形成置換（huàn）死角，置換後爐內仍會預留部分氯矽烷氣體。當爐筒提起後，氯矽烷（wán）殘留氣體與空氣接觸，會在基盤及爐筒表麵形成水解物。這些水解物一（yī）般附著在（zài）進料管口及尾氣管（guǎn）口，其中矽（guī）酸鹽物質為白色膠狀沉澱，二氧化矽為白色粉末狀固體，氯化氫遇潮形成鹽酸殘留在基盤表（biǎo）麵。

3、多晶矽顆粒物

還原爐停爐過程中，因停爐（lú）溫度控製不均，易（yì）造成矽棒破（pò）裂（liè），產（chǎn）生多晶矽碎（suì）屑；收割矽棒過程（chéng）中也會有（yǒu）部分碎屑遺留；如果遇到倒棒，碎屑遺留會更多。

4、其他雜物

在收割矽棒中（zhōng），會帶入少量的粉塵、油脂等汙（wū）染物。油分子對多晶矽的（de）危（wēi）害十分（fèn）嚴重可能造成多晶（jīng）矽反應速度減慢，產量（liàng）降低，甚至矽反應停止。

二、多（duō）晶矽還原（yuán）爐清洗方（fāng）法
 
現今各生產廠家在開發新技術、進行技術改造的同（tóng）時，通過（guò）對設備的清洗來降低能耗（hào）和保證（zhèng）多晶（jīng）矽的產品質量。還原爐沉積多晶（jīng）矽是間歇（xiē）操作，一個運行周期結束後需要打開鍾罩收割矽棒，然後進行基盤清理，再裝矽芯進行下一個周期的化學氣相沉積。因此，想提高設備運轉率、降低能耗（hào），選擇方便、快捷、處理效果好的清理（lǐ）工藝尤為關鍵。

德高潔多（duō）晶矽還原爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為（wéi）主機，以高壓水射流為動力的自驅（qū）動（dòng）三維旋轉噴頭形成360°的網（wǎng）狀高壓水柱（zhù）噴射表麵，從而（ér）完成鍾罩內部表麵的水力掃射，並采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純（chún）水（去離子水或叫脫鹽水）漂洗，之後再采（cǎi）用高純水衝洗，最終完成清洗過程。

德高潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統核心部件高壓（yā）泵采（cǎi）用進口耐酸堿（jiǎn）、耐高溫（wēn）、全不（bú）鏽鋼的加壓泵，並利用多晶（jīng）矽生產廠家的蒸汽餘熱將清洗介質加（jiā）熱，從而改變原電加（jiā）熱工藝。我公司自行研發設計的自（zì）驅動（dòng）旋轉升降（jiàng）噴射機構可適應各規格的（de）還原爐體。