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首頁 > 技術文章

電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係統成功問世

時間:2017-02-27     來源(yuán): 北京德高潔清潔設備有限公司

多晶矽是用工業矽通過化(huà)學、物理途(tú)徑提純製得,多晶矽主要用於生(shēng)產單晶矽和衛星太陽能(néng)電池。單晶矽即矽半導體是(shì)多晶矽的衍生產品,是製造繼承電路和電子(zǐ)元件的優質材料,被廣泛應用於電子工業(yè)中。
 
還原(yuán)爐沉積多晶矽(guī)是間歇操作,一個(gè)運行周(zhōu)期內,矽棒不斷長(zhǎng)大,一個運行周期結(jié)束後打開鍾罩(zhào)收割矽(guī)棒。但在運行期內,基盤及鍾罩表麵均(jun1)會產生(shēng)一層土黃色粉末,其主要成分是無定形矽。在收割矽棒後,需要進行基盤和鍾罩的清理,再裝矽(guī)芯進行下一個周期的化學氣相沉積。
 
多晶(jīng)矽矽棒
 
還原爐鍾罩汙染物(wù)易造成內表麵熱(rè)量反射減少,使生產能耗增加;電極周圍(wéi)汙染(rǎn)物降低了點擊的絕緣而導致運行(háng)過程(chéng)中接地故障、倒棒等生產事(shì)故。而用(yòng)於電(diàn)子行業的多晶矽對產品質量純淨度的(de)控製要求更高,
 
隨著我國半導體工(gōng)業發展,對多晶矽純度要求越來越高,還原爐沉積(jī)環境的潔淨度就顯得(dé)特別關鍵,任何顆粒性雜質、油脂等物質餘留在爐內,都會對產品(pǐn)質量造成影響。那麽,如何清(qīng)理能方便快捷,同時效果更佳?
 
多晶矽(guī)還原爐清洗係統始於2009年,國內第一家研發設計製造並獲得實用新型專利是北京德高潔清(qīng)潔設備有限公司,該公(gōng)司多晶矽(guī)還原爐鍾罩(zhào)清洗係統覆蓋了國內多家多晶矽生產企業。早期(qī)有高壓清洗、化學溶劑低壓清洗(xǐ)、機械拋光等,但大多釆用堿液中壓清洗,這些清(qīng)洗方式不僅不能將鍾罩清洗幹淨,還會損(sǔn)傷表麵鍍銀的還原爐鍾罩,為攻克這一難題,一款全新的用於電子級的多晶(jīng)矽還原爐鍾罩清洗係統應(yīng)運而生。
 
電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係統特點:
 
1、多晶矽還原爐鍾罩清洗係統以(yǐ)水為動力,以水力(lì)自驅(qū)動(dòng)三維洗罐(guàn)器為(wéi)噴頭,形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來完成爐筒內部(bù)表麵的水力掃射。
 
2、采用可以旋轉和升降的清洗(xǐ)吹幹執行機構,根據還原爐每個(gè)視孔鏡相對(duì)原點的相對位置進行準確定位。可自動切換不同(tóng)清(qīng)洗液及吹幹(gàn),通(tōng)過控製係統可對(duì)清洗、吹幹時間等進行調整。清洗(xǐ)時隻需一鍵(jiàn)操作即可,操作簡單方便。
 
3、根據還原爐(lú)底部法蘭的結構特設計升級後的清洗工作台,不僅可以(yǐ)滿足對內壁和視孔鏡的清洗,同時也滿足了底部法蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗,保證整個法蘭底部(bù)都被清洗液覆蓋,並(bìng)清洗、吹幹。
 
4、在整個還(hái)原爐的清洗(xǐ)過程中,清洗、幹燥中筒內形成微負壓狀態,防止清洗外溢,同時將底座與筒(tǒng)體下(xià)法蘭處的汙染物等一並吹掃,通過排汙管排出(chū),從而保證了整個過程不會對潔淨區造成汙染。
 
多晶矽還原爐鍾罩清洗前後對比
 
經過實際應用,多晶矽還原爐清洗係統整套係統可實現全自動化清洗操(cāo)作,在一個工作平台上,一次吊裝可依次(cì)實現自動清洗烘幹全部功能,完全(quán)實現無死角清洗,同時具有完善的聯鎖和保護功能(néng)。
  • 標簽:
  • 多晶矽
  • 還原爐鍾罩
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