多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清理係統

一、係（xì）統概述（shù）
 
多晶矽還原爐體（tǐ）及鍾罩幹式清理係統適用矽烷法多（duō）晶矽生產工藝，用於還原（yuán）車間反應釜中矽汙染物附著力不大的工況條件下無汙染幹式清洗。清洗時利用（yòng）上下移動和旋轉機構帶動高壓氣體噴吹（chuī）以及特殊旋轉刷（shuā）組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的（de）。通過清洗（xǐ）旋轉調速機（jī）構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除（chú）塵淨化器一次（cì）性（xìng）進行除塵（chén）淨化。

二、係（xì）統（tǒng）特點

1、裝置為移動單（dān）元式結構；

2、淨化後的（de）空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在室內排放；

3、采用全（quán）封閉幹式（shì）的清洗方式確保對環（huán）境不出現二次（cì）汙染；

4、電氣設計按隔爆的各項要求執行、 設備（bèi）設有靜電導出裝置（zhì）；

5、控製方式可為全自動或手動控製（zhì）；

6、運行總（zǒng）功率小，噪聲低。
 
三、清掃工藝

反應釜吊裝至清洗台（tái）上→定位→連接→啟動淨化器→啟動旋（xuán）轉→上下（xià）移動機構→高壓氣體沿（yán）壁噴吹→旋轉刷至上而下接觸移動清掃（sǎo）→淨化氣體置（zhì）換→反應釜吊起→檢查。

四、設備組（zǔ）成

主要由清洗平台、氣體噴吹裝置、吸塵（chén）輸送管道、控製閥門（mén）、動力機構（gòu）、清洗機構（gòu）、各管道快速接頭、除塵淨（jìng）化器、電氣控製係統等組成。

主要部件采用進口零部件，確保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單。