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多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清掃裝置（zhì）
多晶矽（guī）還原爐體及鍾罩幹式（shì）清掃裝置使（shǐ）用時利用（yòng）上下移動和旋轉機構（gòu）帶動高壓氣體噴吹以及特殊旋轉刷組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過清洗旋（xuán）轉調（diào）速機構可滿足各工（gōng）況的要求。清洗的同時采用（yòng）特殊除塵淨化器一次（cì）性進行除塵淨化。
多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍
矽烷法多晶矽生產工藝。
用於還原車間反應釜中矽汙（wū）染物附著力不大的（de）工況（kuàng）條件下（xià）無汙染幹式清洗。
■工作原理
清洗（xǐ）時利（lì）用上下移動和（hé）旋轉機構帶動高壓氣體噴吹以及特（tè）殊旋（xuán）轉刷組合機構近距離（lí）對反應釜表麵進行噴吹和（hé）接觸式清掃達到（dào）清洗的目的。通（tōng）過清洗旋轉調速機構可滿（mǎn）足各工況的要求。清洗的同時采用特殊（shū）除塵淨化（huà）器一次性進行除塵（chén）淨化。
■工藝流程
反應釜吊裝至清洗台上—定位—連接、啟動（dòng）淨化（huà）器—啟動旋轉、上下移動機構—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉刷（shuā）至上（shàng）而下接觸移動（dòng）清掃（sǎo）—淨化氣體置換—反應釜吊起—檢查。
■設備組成及配置
主要由清洗（xǐ）平台、氣體噴吹裝置、吸塵輸（shū）送管道、控製閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵淨化（huà）器、電氣控製係（xì）統等組成。
主要部件采用進口零部件，確保運（yùn）行可靠穩定、使用周期長（zhǎng）。操作維修簡單。
■設備（bèi）特點
1)裝（zhuāng）置為移動單元（yuán）式結構。
2)淨化後的空氣可達到10萬級的（de）淨化精度可完全在室（shì）內（nèi）排放。
3)采用全封閉幹式的清洗方（fāng）式（shì）確保對（duì）環境不出現（xiàn）二次汙染。
4)電氣設計（jì）按隔（gé）爆的各項要求執行、 設備設有靜電導出裝置。
5)控製方式可為全自動或手動控製。
6)運行總功率小，噪聲低。
