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多晶矽還原爐體（tǐ）及鍾罩幹式清掃裝置（zhì）
時間：2011-01-11 來源：
多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍
矽烷法多晶矽生產工藝。
用於還原車間反應（yīng）釜中矽汙（wū）染物（wù）附著力不大的工況條件下無汙染幹式清洗。
■工作（zuò）原理
清洗時利用上（shàng）下（xià）移（yí）動和旋轉機構帶動高壓氣（qì）體噴（pēn）吹以及特殊旋（xuán）轉刷組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通過清洗旋轉調速（sù）機構可滿足各工況（kuàng）的要求。清洗的（de）同時采用特殊除塵（chén）淨化器一次性進行除塵淨化。
■工藝流程
反應釜吊裝至清洗台上—定（dìng）位—連接、啟（qǐ）動淨化器（qì）—啟動（dòng）旋轉、上下移動機構—高（gāo）壓氣體沿壁噴吹—旋轉刷至上而下接觸移動清掃—淨化氣（qì）體置換—反應釜（fǔ）吊起—檢查。
■設備組成及配置
主要由清洗（xǐ）平台（tái）、氣體噴（pēn）吹裝置、吸塵輸（shū）送管道、控製閥門、動力機構、清（qīng）洗（xǐ）機構、各管道（dào）快速接（jiē）頭、除塵淨化器、電氣控製係統等組（zǔ）成。
主要（yào）部件采用進口零部件，確保運行可靠穩定、使用（yòng）周（zhōu）期長。操作維修簡單。
■設（shè）備特點
1)裝置為移動單元式結構。
2)淨化後的空氣可達到10萬（wàn）級的淨化精度可完全在室內排放。
3)采用全封閉幹式的清洗方式確保對環境（jìng）不出現二（èr）次汙染。
4)電氣（qì）設計按（àn）隔爆的各項要求執行、 設備（bèi）設有靜電導出裝置。
5)控製方式可為全自動或手（shǒu）動控製。
6)運行總功率小，噪聲低。
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